NANOMAP-1000WLI 白光干涉三維形貌儀

簡介：
美國AEP Technology公司主要從事半導體檢測設備, MEMS檢測設備, 光學檢測設備的生產制造，是表面測量解決方案行業的供應者,專門致力于材料表面形貌測量與檢測。公司始終致力于微觀表面“三維”檢測技術和設備的研發及推廣，歷經近十年努力，已為30多個國家提供NanoMap系列三維表面形貌測量系統。
NanoMap1000WLI光學三維形貌儀在0.1nm 到 10mm 的垂直掃描范圍內提供了非接觸式高速高精度三維表面測量工能，縱向分辨率可達0.01nm。所有測量都是非破壞性和快速的，樣件無須專門處理，在高速掃描狀態下測量范圍可以到10mm。具有的自動化水平，友好的用戶界面，以及業內SPIP分析軟件系統。眾多技術的集成、經過長期實用驗證的測量技術核心以及適合于各種專業應用需要的軟件功能，使 NanoMap 成為的光學干涉測量設備，可滿足MEMS、金屬研究、材料科學、半導體、器械等眾多領域科研和生產工作中對高精度自動化表面測量的需要。
特點：
1.     真正的非接觸式三維測量
2.     測量輪廓臺階高度范圍從小于1nm到高達10mm
3.     基于白光干涉的高精度定量共焦模式，自動調焦，垂直分辨率高達0.1nm
4.     高速掃描，無須制樣，無須真空，金屬非金屬均可，快速直觀，操作方便
5.     的綜合圖象處理軟件，致力于采集，分析，統計和可視化數據處理等
 
的軟件功能：
SPIP提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值, 交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。
 
主要技術參數
物鏡倍數: 50x，20x，10x，5x任意可選，最多可同時搭載6枚物鏡
垂直分辨率 0.1nm, 0.02nm（高精度模式）
CCD相機像素：1024×1024
掃描范圍: 150mm x 150mm
 
 
 
 
 
 


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